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牛津仪器Etch刻蚀工艺
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离子色谱仪HIC-SP/HIC-NS
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伯东NS离子刻蚀机
离子蚀刻机 20-M/NS-12上海伯东 NS 进口离子蚀刻机 20-M/NS-12,适合大规模量产使用的离子刻蚀机离子蚀刻机 20-M/NS-12 主要技术参数:基片尺寸直径 4英寸 X 12片
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伯东NS离子刻蚀机
上海伯东 离子蚀刻机 20-M / NS-12适合大规模量产使用的离子刻蚀机基片尺寸直径 4英寸 X 12片 直径 18英寸 X 3片样品台直接冷却离子源20cm 考夫曼离子源电源可更换
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Obducat电子束刻蚀系统
仪器简介:1998年Obducat公司并购了在SEM有三十年经验的Camscan,并结合自身在纳米压印设备以及光存储设备的开发经验,研发了电子束刻蚀设备,提供EBR-30kV
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牛津仪器PlasmaPro 100 ALE原子层刻蚀
我们的设备和工艺已通过充分验证,正常运转时间可达90%以上,一旦设备安装完毕,可立即投入使用。PlasmaPro 100系列市场应用广,包括但不限于: MEMS和传感器、光电子、分立元器件和纳米技术。
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牛津仪器PlasmaPro 100 Cobra刻蚀和沉积设备
PlasmaPro 100系列刻蚀和沉积设备可安装多种衬底电极,能够在很宽的温度范围内进行工艺,具有200mm单晶圆和多晶圆批处理能力,该工艺模块可提供具有高度均匀,高产量和高精度的工艺。
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荷兰TE XPLORER NS总硫总氮分析仪
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牛津仪器PlasmaPro100 Estrelas刻蚀设备 高刻蚀速率腔刻蚀
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梅特勒托利多 便携式多参数测试仪 SG98 -FK5
便携式多参数测试仪 SG98 -FK5无限选项.智能多参数便携式仪表便携式双通道 pH/电导率仪支持对两个电化学参数进行同步分析。坚固耐用 操作舒适IP67防水防尘,适用于严苛环境。 通过独特的符合
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